Cryo H&I
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크라이오에이치앤아이는 대한민국을 대표하는 극저온 냉각기술을 제공하는 전문기업으로서 극저온 냉각기술을 통해 인류와 산업에 기여하고자 합니다.

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[Introduction] 회사소개
[Promotion] 회사 방송 출연 (YTN 최강기업)
[Product] 크라이오펌프
[Product] 크라이오쿨러
[Product] 액화질소생성기
[Product] 금속소재시험기
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NEWS
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  • 최신뉴스
🌎-크라이오에이치앤아이,-SEMICON-West-2026-참가
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| 글로벌 반도체 산업을 위한 진공 기술, 부스 6457에서 만나보세요! 크라이오에이치앤아이가 SEMICON West 2026에 참가합니다!  📢 10월 13일부터 15일까지 진행되는 이번 전시에서 크라이오에이치앤아이의 Cryopump와 Helium Compressor를 직접 만나보실 수 있습니다.SEMICON West는 반도체 제조 기술과 장비, 소재 및 관련 산업의 최신 기술과 시장 동향을 확인할 수 있는 글로벌 반도체 산업 전시회입니다.크라이오에이치앤아이는 이번 전시에서 반도체 공정의 진공 환경과 크라이오펌프 시스템의 안정적인 운영을 지원하는 핵심 장비를 선보입니다. ​ 📍 Booth 6457에서 크라이오에이치앤아이를 만나보세요! ❄️ 반도체 공정의 핵심 기술, Cryopump & Helium Compressor 반도체 제조 공정에서는 안정적인 진공 환경과 장비의 지속적인 운전 성능이 중요합니다. 크라이오에이치앤아이는 고진공 환경을 구현하는 Cryopump와 크라이오펌프의 냉각 시스템을 구동하는 Helium Compressor를 통해 반도체 장비 산업에 필요한 극저온 기술을 제공하고 있습니다. 🔹 1. Cryop
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  • 최신뉴스
🌡️-크라이오에이치앤아이,-RQ2026-전시-참가
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| 극저온 냉각 기술로 첨단 소재 연구를 지원합니다 국내 유일의 극저온 전문기업 크라이오에이치앤아이㈜가 RQ2026(The 18th International Conference on Rapidly Quenched and Metastable Materials)에 참가하여 자사의 Cryocooler 기술을 선보입니다. RQ2026은 급속응고 및 준안정 재료(Rapidly Quenched and Metastable Materials)를 주제로 개최되는 국제학술대회로, 전 세계 연구자와 산업계 전문가들이 첨단 소재 분야의 최신 연구 성과와 기술을 공유하는 글로벌 학술 행사입니다. 2026년 RQ2026은 8월 23일부터 28일까지 부산 파라다이스호텔에서 개최되며, 전시는 8월 24일부터 26일까지 진행됩니다. 이번 전시에서 크라이오에이치앤아이는 다양한 극저온 환경 구현에 활용되는 Cryocooler를 소개하며, 첨단 소재 연구 및 극저온 시험 분야에서 활용 가능한 냉각 솔루션을 선보입니다. ❄️ 첨단 소재 연구를 위한 Cryogenic Cooling Technology 소재의 물리적·기계적 특성을 정확하게 분석하고 다양한 온
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🌡️-크라이오에이치앤아이,-K-Display-2026-참가
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| 디스플레이 공정의 안정성을 높이는 진공 솔루션, 부스 C-02에서 만나보세요 국내 유일의 극저온 전문기업 ㈜크라이오에이치앤아이(Cryo H&I)는 K-Display 2026에 참가하여 Cryopump와 Helium Compressor를 선보입니다. 이번 전시는 디스플레이 산업의 최신 기술과 미래 비전을 공유하는 국내 대표 전시회로, 크라이오에이치앤아이는 부스 C-02에서 반도체 및 디스플레이 공정에 최적화된 진공 솔루션을 소개합니다. ❄️ 고진공 환경을 위한 핵심 기술 디스플레이 제조 공정은 높은 생산성과 균일한 품질을 유지하기 위해 안정적인 고진공(High Vacuum) 환경이 필수적입니다. 특히 OLED, 증착(Evaporation), 스퍼터링(Sputtering) 등 다양한 진공 공정에서는 우수한 진공 성능과 높은 신뢰성을 갖춘 Cryopump가 핵심 장비로 사용됩니다. 크라이오에이치앤아이는 자체 기술력을 바탕으로 개발한 Cryopump와 Helium Compressor를 통해 안정적인 진공 환경과 높은 공정 효율을 제공합니다. 🧊 전시 제품 소개 🔹 Cryopump Cryopump는 극저온 표면을 이용해 가
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